No presente trabalho se apresentam e discutem os resultados referentes à
obtenção por via eletroquímica de filmes bicamadas de CoOOH-Ni(OH)2. Para isso
foram estudadas diferentes condições de eletrodeposição dos componentes simples
Ni(OH)2 e CoOOH. No caso da deposição de Ni(OH)2 se estudou a influência da
temperatura de eletrodeposição na resposta eletroquímica dos filmes a partir da
deposição a 5 oC, 10 oC, 15 oC, 20 oC e 25 oC. Por meio da Voltametria Cíclica foram
determinadas as diferentes contribuições na carga armazenada no material. Como
resultado a destacar foi encontrado que nos filmes depositados a 10 oC, tanto as áreas
mais internas do material, como as externas, participam do processo de armazenamento
de carga, obtendo-se elevados valores de capacitância de 2549 Fg-1. Nos filmes de
CoOOH foi estudada a influência do substrato no desempenho do material. Para isso os
filmes foram depositados em placas de Ti, placas de aço e malha de aço. Os filmes
depositados em placa de aço mostraram desempenho eletroquímico superior, com
elevados valores de capacitância de 614,3 F g-1 e uma estabilidade de 92,6 % despois de
1000 ciclos de Voltametria Cíclica. Tendo em conta as melhores condições de obtenção
dos filmes simples, foram desenvolvidos filmes bicamada de CoOOH-Ni(OH)2 a partir
da oxidação eletroquímica dos filmes de Co(OH)2 e Ni(OH)2 usados como precursores.
A caracterização a partir da Espectroscopia Raman mostrou a efetiva conversão de
Co(OH)2 a CoOOH, com preservação do Ni(OH)2. Os filmes bicamadas mostraram
elevado desempenho eletroquímico como resultado da sinergia entre os componentes.
Valores de capacitância de 1795 F g-1 a 1,0 mA cm-2 e uma retenção da capacitância de
96,82 % a 10 mA cm-2 foram características relevantes dos filmes bicamada, tornandoos
um material promissor na aplicação como eletrodo para dispositivos de
armazenamento de energia.
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